臭氧应用于半导体材料清洗

发布时间: 2020-08-15 10:56:17   浏览: 83次

芯片是在半导体片材上进行浸蚀,布线,制成的能实现某种功能的半导体器件,在半导体芯片的制造过程中,如果遭到尘埃、金属等污染,很容易造成晶片内电路功能的损坏,形成短路或断路。因此芯片的制造过程中,对半导体材料的清洗是一项重要的流程。





半导体芯片在制造的过程中主要存在以下污染:颗粒、有机物、金属污染物、原生氧化物及化学氧化物等。经过半导体行业从业人员多年来的研究和实践,臭氧可以应用在半导体晶圆的清洗和抗剥离应用。利用臭氧微溶于水的特点,把臭氧气体溶解于水中形成臭氧水,臭氧水可以有效去除有机污染物(如:六甲基二硅胺烷),减少化学品和超纯水的消耗量,同时还能避免浴后较难冲洗的步骤。




在应用臭氧清洗半导体行业,臭氧还能被利用来去除金属和颗粒,CUHG等金属离子存在于HF溶液时会沉积到半导体表面形成氧化层,在应用中,研究人员发现将臭氧和HF/HCL混合可有效预防溶液中金属外镀,增长溶液使用时间,低浓度的HCL/O3混合物,可使半导体表面产生亲水性,以保证半导体干燥时不产生干燥斑点或水印,同时也避免再次发生金属污染。

在大直径晶片的清洗工艺中,通常采用单晶片清洗法,清洗过程是在室温下重复利用超纯水和臭氧混合形成的臭氧水(DI-O3)产生氧化硅,清除颗粒和氧化物,最后冲洗时再利用超纯水或臭氧水。



半导体晶片的清洗是晶片的制造过程中重复最多的工序,清洗效果的好坏直接影响到芯片的电路特性和成品质量。清洗液和各种化学品使用不当会造成环境的严重污染,臭氧在半导体芯片清洗的应用,本质就是利用臭氧气体的氧化性、微溶于水以及自分解为氧气的特性,臭氧气体溶于水会形成OH-,其氧化能力极高,半衰期短也不会对芯片二次污染。



汇威环保是一家专业的臭氧发生器制造商,在半导体行业的应用中积累了大量的客户(如:中科院微电子所等),汇威环保立足科技,打造浓度高、稳定性好的臭氧发生器设备。目前,芯片制造行业在我国发展仍有短板,好在国家正加大投入应对芯片危机,一大批芯片制造企业正快马加鞭努力追赶,相信在不久的未来,这颗工业制造王冠上的明珠终归会被我们收入囊中。





产品推荐

联系我们

联系电话:0591-87863316

传真:0591-87883797

地址:福州市鼓楼区软件园E区11号楼

邮箱:api10000@api10000.com

手机:18650383198

闽公网安备 35010202000983号    闽ICP备12020573号-1